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硅晶圆减薄和背面金属化-半导体晶圆加工中道制程

发布时间:2019-07-23 15:41

Ø半导体晶圆加工中道制程

Ø硅晶圆减薄和背面金属化;

Ø6inch、8inch、12inch晶圆减薄、抛光和背面金属化;

Ø晶圆背面金属:TiNiAg、TiAu/Au、TiNiAgSn等Ø目前产能:21,000片;


o晶圆减薄背面金属化;n6inch& 8inch& 12inch晶圆;nCuPillar晶圆的减薄背面金属化;nSolderBall晶圆的减薄背面金属化;o6inch, 8inch, 12inch晶圆背面减薄和抛光;o陶瓷片减薄和抛光、TiNiAu金属化;o玻璃片镀膜;o晶圆正面NiAu & NiPdAu金属化;


  晶圆尺寸
  
  6inch & 8inch
  
  晶圆导电类型
  
  N型晶圆 & P型晶圆
  
  研磨厚度
  
  >100um
  
  研磨精度
  
  Spec+/-10um
  
  背面金属化种类
  
  (1)TiNiAg;   (2)TiNiAgSn;   (3)TiAu;   (4)根据客户的需要开发;  



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