失效分析: 传统的芯片化学开封被定义为有损性工艺,只可复核无损观测到的失效点。应用激光工艺的物理开封也可以是无损工艺。 激光工艺可以无损开封至部分芯片的晶圆层。 选用高光子能量的短波长激光器,激光工艺可完全取代传统的制模倒模、机械切割研磨,部分激光剖面甚至无需后续研磨。 绿激光/紫外激光切割不仅可以用于芯片剖面,更可用于打开金属或陶瓷封装盖,开盖工艺是传统机械切割难以或无法达成的。
伴随IC,LED,MEMS产业发展,新材料的应用,对FA失效分析提出来新的挑战,无损开封技术作为前道工序,激光开封Laser Decap所独有的特点,有效解决了化学开封带来的额外损伤
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可精确控制每一层激光扫描能量,每层移除厚度可控制在10~100 μm,精准定位开封区域,暴露引线框架,邦定线,基板,甚至直接开封至晶圆层。 通过电动变焦显微系统,针对超微小尺寸,可实现数字化定位。 完全/部分开封暴露邦定线,完美清除线下树脂残留,显著节省后续工艺时间。
独有激光工艺可干净、可完整地去除LED芯片的透明封胶,而传统的机械、化学工艺无法开封。
CLC开发了特殊的工艺方式能彻底清除环氧树脂混合的大颗粒封装填充料。如高温环境下的智能汽车芯片常用的玻璃微球封装填充料。
切割并打开KOVAR或陶瓷材料封装盖 局部加热,精确控制加热量,软化粘合剂后打开金属盖。
应用激光剖面切割工艺,传统的芯片剖面的冷镶热镶工艺不再必要! 激光可直接切割BGA焊接球。
激光 | 机械 | 等离子 | 化学酸式 | |
工艺概述 | 用激光光学镜片反射准确定位, 光束能量汽化塑封层 | 用机械钻头旋转磨除塑封层 | 用真空高频等离子活性微粒, 与塑封材料反应成挥化性物质 | 用发烟硝酸和浓硫酸负压喷射腐蚀, 用丙酮或乙醇清洗 |
工艺可行 | 可剖面切割 | 可剖面切割 | 不可切割 | 不可切割 |
工艺时间 | 快,5秒至1 分钟 | 较快,几分 钟至十几分 | 很慢,几十 小时 | 慢,几小时 |
芯片损伤 | 无,可精确定位 | 有,难以控制 | 无 | 有,难以控制 |
成本 | 实验室建设成本低无耗材 | 实验室建设成本低钻头耗材高 | 实验室建设成本低气体耗材高 | 实验室建设、环保成本高 浓酸耗材高 |
设备寿命 | 10万小时 | 几千小时换钻头 | 几千小时换高频发射器 | 几百小时换机器 |
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